第11屆中國國際半導體博覽會暨高峰論壇(簡稱2013 ICC)將于2013年11月13-15日在上海新國際博覽中心隆重開幕。屆時，北京科華微電子材料有限公司（KEMPUR）將攜相關產(chǎn)品亮相展會。

科華微電子是中國第一個擁有光刻膠自主知識產(chǎn)權(quán)的半導體企業(yè)。董事長陳昕介紹：公司也是國內(nèi)唯一一家集光刻膠科研、生產(chǎn)、銷售和服務于一體的中外合資企業(yè)。公司擁有雄厚的技術實力、擁有光刻膠自主知識產(chǎn)權(quán)及資深的研發(fā)隊伍，可根據(jù)客戶需求進行產(chǎn)品的設計與開發(fā)。

2004年8月13日，科華微電子在北京市天竺綜合保稅區(qū)成立。公司經(jīng)營范圍為:生產(chǎn)微電子材料、半導體原材 料檢測、技術開發(fā)、銷售自產(chǎn)產(chǎn)品。目前經(jīng)營領域為光刻膠、配套試劑的生產(chǎn)與銷售。

陳昕介紹：科華微電子承擔國家02重大專項“248nm光刻膠研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化”項目，并通過ISO9001質(zhì)量體系審核和ISO1400環(huán)境體系審核。

先進的應用測試設備

公司目前有兩個生產(chǎn)基地，一個位于北京天竺空港出口加工區(qū)，占地面積21000多平方米，建筑面積9300多平方米，以高檔光刻膠的生產(chǎn)為主，產(chǎn)品包括高檔g線正膠、i線正膠和TFT LCD用正膠及相關的配套試劑，其中的高檔ｇ線和ｉ線正膠生產(chǎn)線是國內(nèi)第一個擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的現(xiàn)代化的500噸/年的光刻膠生產(chǎn)線?，F(xiàn)有產(chǎn)品均為國家重點攻關項目，亦是2009年出臺的《電子信息產(chǎn)業(yè)調(diào)整和振興規(guī)劃》和 《國家科技重大專項“十二五”發(fā)展規(guī)劃戰(zhàn)略》中的重點支持項目。

另一個生產(chǎn)基地位于房山區(qū)燕山石化工業(yè)區(qū)，2005年建成投產(chǎn)，是國內(nèi)規(guī)模最大的負膠和配套試劑生產(chǎn)基地，主要以紫外負型光刻膠及配套試劑和寬譜正膠為主，其中負膠生產(chǎn)為百噸級規(guī)模，配套試劑為千噸級規(guī)模。

科華微還集中了國內(nèi)外最優(yōu)秀的光刻膠研發(fā)與生產(chǎn)方面的技術專家和團隊，并與清華大學、北京大學及北京師范大學等建立了密切的合作關系。

陳昕介紹，公司于2008年4月28日與北京工業(yè)投資發(fā)展管理有限公司增資擴股簽約儀式在順義區(qū)天竺出口加工區(qū)內(nèi)舉行。此次簽約完成后，北京市工業(yè)投資發(fā)展管理有限公司投資2000萬元，成為科華微中方第一大股東。

科華微增資擴股簽約儀式